中華人民共和國專業(yè)標準

                                                     ZB H24 001--87

                      旋轉磁場磁粉探傷方法

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    本標準提出了用交叉磁軛產(chǎn)生的旋轉磁場對被檢工件進行連續(xù)磁粉探傷時應遵守的一般規(guī)則。

    本標準適用于探測鐵磁性材料、工件及其焊縫的表面和近表面缺陷。

1方法概要

    當采用交叉式磁軛對被檢工件進行連續(xù)行走探傷時,工件被旋轉磁場進行連續(xù)磁化,其表面和近表面缺陷都會產(chǎn)生漏磁通,從而吸引磁粉形成缺陷磁痕,在一次磁化探傷中可以同時檢出各個方向上的缺陷。

2術語

2.1交叉磁軛:是由兩個軛狀的電磁鐵以一定夾角進行空間交叉或平面交叉組合而成,并用不同相位的兩相交流電激磁的磁化裝置。

2.2跨越寬度:交叉磁軛兩磁極內(nèi)側在垂直于行走方向上所能跨過的*大距離(見圖1)。

2.3有效探傷寬度:在實際探傷條件下,在垂直于磁軛行走方向上能夠達到所需探傷靈敏度的*大距離。

                     圖1  交叉磁軛的跨越寬度

  1--交叉磁軛的磁極  2--交叉磁軛的行走小輪  L1--被檢焊縫的寬度  L2--跨越寬度

2.4其它術語應符合JB3111--82《無損檢測名詞術語》的規(guī)定。

3探傷人員資格

    從事旋轉磁場磁粉探傷的操作者應具有必要的專業(yè)知識和有關部門頒發(fā)的、并與其工作相適應的資格證書。

4設備

4.1交叉磁軛式的磁粉探傷儀

4.1.1激磁安匝數(shù):一般不低于1300AT x2。

4.1.2磁極端面與被探傷面之間的間隙:交叉磁軛在被探工件表面上行走探傷時,四個磁極端面與探傷面之間必須保持一定的間隙,一般應不超過1.5mm。

4.1.3跨越寬度:一般不大于100mm。

4.2光源

4.2.1白光源:觀察非熒光磁痕所需用的白光源,應保證在被檢工件表面上有足夠的亮度。

4.2.2黑光源:采用熒光磁粉探傷時,所需的黑光源應具有能通過波長為320--400nm的紫外輻射的濾光片,而且在被檢工件表面上的黑光強度應不低于970lx。

5磁粉和磁懸液

5.1磁粉

5.1.1可使用熒光磁粉或非熒光磁粉。

5.1.2探傷用的磁粉應具有高導磁率和低剩磁的性質(zhì)。

5.1.3磁性:用磁性稱量法檢驗時,非熒光磁粉(空心球形磁粉除外)的磁性稱量值應大于7g,熒光磁粉的磁性稱量值可另行選擇。

5.1.4粒度:應小于80μm。

5.2載液:水或煤油。

5.3磁懸液

5.3.1除磁粉制造廠另有規(guī)定外,熒光磁粉磁懸液濃度一般為0.5--2g/l;非熒光磁粉磁懸液濃度一般為7--20g/l。

5.3.2當使用水作載液時,磁懸液內(nèi)應放入適量的分散劑、防銹劑和消泡劑。

6標準試片

    一般使用A型或C型標準試片來檢查探傷裝置、磁粉、磁懸液的性能和探傷操作是否正確等。

6.1A型標準試片:應符合我國ZBJ04006--87《鋼鐵材料的磁粉探傷方法》中4.1條的規(guī)定。

6.2  C型標準試片:C型標準試片用于焊接坡口等狹小的部位,即因尺寸關系、使用A型標準試片有困難時,它可用來代替A型標準試片。這種試片必須經(jīng)權威部門鑒定、認可。

6.2.1C型標準試片的材質(zhì)與A型標準試片相同。

6.2.2C型標準試片的厚度為50μm。人工缺陷的深度為8±1μm、寬度為50±8μm。

6.2.3C型標準試片的形狀和尺寸見圖2。

6.2.4C型標準試片在使用時,沿分割線切成5mmｘ10mm的小片、并將有人工缺陷的一面貼緊探傷面。

6.3A型或C型標準試片的形狀、尺寸發(fā)生變化后,不得繼續(xù)使用。

                 圖2 C型標準試片             單位mm

7探傷前的準備

7.1被探傷面的清理與處理

    探傷前,應將被檢部位進行清理。必要時需進行打磨或噴砂處理,除去影響探傷的油污、焊接飛濺、銹斑和松動的氧化皮等。

7.2綜合探傷性能的檢查

7.2.1根據(jù)探傷靈敏度的要求,首先將相應規(guī)格的A或C型標準試片貼在被檢工件表面上。

7.2.2磁軛通電磁化并行走通過貼片部位,在實際探傷條件下進行探傷操作。

7.2.3觀察試片的顯示效果:試片背面人工缺陷的磁痕顯示清晰、完整,方可確認探傷裝置、磁粉、磁懸液性能和探傷操作等綜合探傷性能符合探傷要求。

8探傷操作

8.1首先將交叉磁軛放在被清理好的被檢工件上,然后通電磁化被檢工件,并驅(qū)動(手動或機械拖動)交叉磁軛連續(xù)行走探傷。當大型工件進行分段磁化探傷時,相鄰兩磁化區(qū)域的有效探傷寬度至少應重迭25mm。

8.2磁懸液的噴灑是在磁化過程中同時進行的,磁懸液一般應均勻地噴灑在交叉磁軛的前方。

8.3磁軛的行走速度:要力求均勻,一般不大于0.05m/S。

8.4磁痕的觀察

8.4.1磁痕的觀察應在探傷后及時進行,觀察磁痕用的光源應符合本標準4.2條的要求。

9缺陷磁痕的等級分類

    缺陷磁痕的等級分類應按ZB J04 006--87標準中的第7章執(zhí)行。

10檢驗報告

    檢驗報告應包括下列內(nèi)容:

10.1探傷對象:包括工件名稱、材質(zhì)、探傷部位和表面狀態(tài)等。

10.2探傷條件

10.2.1探傷設備:名稱、型號及制造廠。

10.2.2磁粉:類別(熒光或非熒光磁粉)、型號、粒度和色彩等。

10.2.3載液。

10.2.4磁懸液:配方和濃度。

10.2.5磁化規(guī)范:激磁安匝數(shù)。

10.2.6磁軛行走速度。

10.2.7探傷靈敏度:用A或C型標準試片的規(guī)格型號表示。

10.3探傷結果

10.3.1有無缺陷磁痕。

10.3.2缺陷磁痕的位置、形態(tài)、尺寸(被檢工件表面上缺陷磁痕的顯示長度)和缺陷磁痕的等級分類。

10.4探傷者姓名、資格等級及探傷日期等。

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    附加說明:

    本標準由上海材料研究所提出并歸口。

    本標準由冶金工業(yè)部建筑研究總院負責起草。

    本標準主要起草人:李玉桂  徐立勛 

國家機械工業(yè)委員會批準                      1988-01-01實施