機(jī) 械 工 業(yè) 部 重 型 礦 山 機(jī) 械 工 業(yè) 局 企 業(yè) 標(biāo) 準(zhǔn)

                                                              JB/ZQ 6112--84

                   汽輪發(fā)電機(jī)用鋼質(zhì)環(huán)的超聲波檢驗(yàn)方法

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    本標(biāo)準(zhǔn)包括使用超聲橫波和縱波檢驗(yàn)內(nèi)徑同壁厚之比等于或大于5：1、壁厚為25--100mm的汽輪發(fā)電機(jī)護(hù)環(huán)時(shí)應(yīng)遵循的步驟。

    本標(biāo)準(zhǔn)敘述用接觸法和液浸法護(hù)環(huán)進(jìn)行超聲檢驗(yàn)的方法，但并不限制使用其他的檢驗(yàn)方法。

    本標(biāo)準(zhǔn)等效采用ＡＳＴＭ Ａ531--74(1979年重新審定)《汽輪發(fā)電機(jī)鋼質(zhì)護(hù)環(huán)的超聲檢驗(yàn)推薦的操作方法》。

1儀器裝置

1.1 探傷儀

    應(yīng)使用頻率為1--5ＭＨz的脈沖反射式超聲波探傷儀進(jìn)行檢驗(yàn)。探傷儀的垂直線性、水平線性、動(dòng)態(tài)范圍、信噪比、分辨率和衰減器精度應(yīng)符合JB 1834 《Ａ型脈沖反射式超聲波探傷儀技術(shù)條件》中相應(yīng)條款的規(guī)定。探傷儀應(yīng)具有衰減量不小于60dB的連續(xù)可調(diào)的衰減器。

1.1.1 當(dāng)采用液浸法檢驗(yàn)時(shí)，必須使用適當(dāng)?shù)臋z驗(yàn)設(shè)備，以便使護(hù)環(huán)能浸入耦合液中或者能在工件和探頭之間采用液柱或溢流耦合來(lái)進(jìn)行檢驗(yàn)。設(shè)備還應(yīng)配備用于掃查的使工件或探頭平衡地作機(jī)械轉(zhuǎn)動(dòng)的裝置。

1.2

1.2.1 接觸法

1.2.1.1 應(yīng)使用頻率為2--2.5ＭＨz或1--1.25ＭＨz的、折射角為45°的、晶片直徑相當(dāng)于20--30mm的斜探頭進(jìn)行橫波檢驗(yàn)（除由于材質(zhì)衰減外，應(yīng)優(yōu)先選用2--2.5ＭＨz的頻率）。探頭應(yīng)具有足夠的聲穿透性，以便能清楚地分辨出超過(guò)總噪聲電平的Ｖ型槽信號(hào)。

1.2.1.2 應(yīng)使用頻率為5ＭＨz、2--2.5ＭＨZ或1--1.25ＭＨz的，晶片直徑為12.0--30.0mm的直探頭進(jìn)行縱波檢驗(yàn)。晶片材料（如鋯鈦酸鉛、鈦酸鋇、硫酸鋰等）護(hù)環(huán)制造廠可任意選擇。

1.2.1.3 當(dāng)需要對(duì)探測(cè)到的超聲信號(hào)作進(jìn)一步探查時(shí)，可采用其他頻率、其他類型的探頭進(jìn)行檢驗(yàn)。

1.2.1.4 可將探頭的有機(jī)玻璃斜楔的曲率磨成與護(hù)環(huán)的曲率相同，以保持探頭和護(hù)環(huán)外徑之間的*佳接觸。

1.2.2 液浸法

1.2.2.1 應(yīng)使用頻率為5ＭＨz、2--2.5ＭＨz或1--1.25ＭＨz的、晶片直徑為12.0--30.0mm的水浸探頭進(jìn)行檢驗(yàn)。探頭的直徑、頻率和晶片材料（如鋯鈦酸鉛、鈦酸鋇、硫酸鋰等）護(hù)環(huán)制造廠可以任意選擇。

1.2.2.2 控制換能器的操縱支架應(yīng)能調(diào)整換能器的角度，以達(dá)到發(fā)現(xiàn)內(nèi)部缺陷的*佳靈敏度。操縱支架的調(diào)整或旋轉(zhuǎn)機(jī)械的旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的偏差或自由松動(dòng)不應(yīng)過(guò)大，以免妨礙超聲檢驗(yàn)所要求的靈敏度。

1.2.2.3 當(dāng)把探頭浸入液體時(shí)，可使用同軸電纜和探頭接管將探頭同電子設(shè)備相連而導(dǎo)通電脈沖，也可用準(zhǔn)直管修正聲束的形狀。

1.3 監(jiān)控裝置

    可用具有適當(dāng)靈敏度和監(jiān)控范圍的報(bào)警系統(tǒng)或記錄儀（或兩者同時(shí)使用），以便對(duì)檢驗(yàn)進(jìn)行嚴(yán)密控制。

2表面光潔度                                                      ＿

2.1 護(hù)環(huán)外徑和內(nèi)徑的表面光潔度不應(yīng)低于GB 1031《表面光潔度》所規(guī)定的ｖ5，其軸向和周向的波紋度不應(yīng)超過(guò)0.02mm。

2.2 護(hù)環(huán)加工表面應(yīng)無(wú)劃傷、氧化皮、切削加工或打磨留下的微粒、涂料及其他異物。

3耦合劑

3.1 當(dāng)采用接觸法檢驗(yàn)時(shí)，應(yīng)使用適當(dāng)?shù)鸟詈蟿?，如清潔的機(jī)油，以便獲得良好的聲耦合。

3.2 當(dāng)采用液浸法檢驗(yàn)時(shí)，應(yīng)使用能將超聲波從換能器耦合到工件中去的液體（如水、油、甘油等），在耦合液中可添加防銹劑、軟化劑和濕潤(rùn)劑。含有添加劑的耦合液，不應(yīng)損害被檢工件表面或檢驗(yàn)用容器，并應(yīng)能潤(rùn)濕被檢工件表面，以提供良好接觸。耦合液可加熱到適當(dāng)溫度，但不應(yīng)有氣泡。

4橫波檢驗(yàn)方法

4.1 校正基準(zhǔn)

4.1.1 應(yīng)刻制一條Ｖ形槽作為校正基準(zhǔn)，槽的角度為60--85°，長(zhǎng)度為6.5mm，并應(yīng)刻在護(hù)環(huán)外圓表面。Ｖ形槽所在位置，沿護(hù)環(huán)軸向，應(yīng)離端部足夠遠(yuǎn)，以避免可能產(chǎn)生的側(cè)壁反射干擾。沿護(hù)環(huán)周向，應(yīng)選在對(duì)護(hù)環(huán)材料有代表性的區(qū)域，該區(qū)域可用橫波波束對(duì)準(zhǔn)圓周方向，以足能顯示護(hù)環(huán)材料組織的高靈敏度對(duì)護(hù)環(huán)進(jìn)行掃查來(lái)確定。

4.1.2 Ｖ形槽的方向應(yīng)是護(hù)環(huán)的軸向。Ｖ形槽的深度為護(hù)環(huán)壁厚的1%，但*小應(yīng)為0.5mm。應(yīng)在消除了槽旁的擠壓增肉后對(duì)槽深進(jìn)行測(cè)量。

4.1.3 精加工后的護(hù)環(huán)檢查，可以采用與護(hù)環(huán)具有相同材料、相同壁厚、相同曲率的另一基準(zhǔn)試塊，該試塊的寬度應(yīng)等于或大于100mm，長(zhǎng)度應(yīng)足以顯示校準(zhǔn)槽三次反射信號(hào)。

4.1.4 采用液浸法軸向橫波檢驗(yàn)時(shí)，可在護(hù)環(huán)外圓表面離端部足夠遠(yuǎn)的位置刻制一條圓周方向的槽，使其回波能同外徑的端角清楚分辨。槽的尺寸應(yīng)和4.1.1條及4.1.2條所述相同。

4.2 接觸法中的儀器校正

4.2.1 將2--2.5ＭＨz或1--1.25ＭＨz的斜探頭接在探傷儀上，把探頭放在校準(zhǔn)槽上，并使晶片對(duì)準(zhǔn)圓周方向。沿圓周方向移動(dòng)探頭，使 聲束射向校準(zhǔn)槽，直到能顯示出槽的回波。再沿相同方向繼續(xù)移動(dòng)探頭，直到**次反射的*大信號(hào)出現(xiàn)為止。

4.2.2 調(diào)整掃描線長(zhǎng)度，使校準(zhǔn)槽的**次和**次反射波大致在掃描基線的40%和80%的位置。

4.2.3 調(diào)整增益，使**反射波高為40mm，標(biāo)出該反射波高度和半波高度的位置。從相反方向探測(cè)該校準(zhǔn)槽，如果發(fā)現(xiàn)在幅度上有明顯的差別，則應(yīng)重新刻制一條新的校準(zhǔn)槽。

4.2.4 用同樣方式可找并標(biāo)出槽的**反射波高度和半波高的位置。然后畫出校正槽的兩次反射波高位置的連線和半波高位置的連線，這兩條線分別稱為*高基準(zhǔn)線和半波高基準(zhǔn)線。

4.3 液浸法中的儀器校正

4.3.1 圓周方向

4.3.1.1 使換能器垂直于護(hù)環(huán)外圓表面，并使得到的水聲程為75±6.5mm。調(diào)整掃描延遲和掃描線長(zhǎng)度，使水和鋼的界面反射位置出現(xiàn)在熒光屏左側(cè)，并使**次外壁反射出現(xiàn)在熒光屏中心偏左處，使通過(guò)環(huán)壁的斜射聲程至少有兩次能在熒光屏上清楚地顯示，將換能器放在校準(zhǔn)槽的上方，并通過(guò)調(diào)整角度和水平位置使校準(zhǔn)槽反射信號(hào)*大。再沿相反方向探測(cè)校準(zhǔn)槽，如果發(fā)現(xiàn)幅度上有明顯的差別，則應(yīng)刻制一條新的校正槽。

4.3.1.2 調(diào)整增益，使**次反射波的波高為40mm，并標(biāo)出該回波高度和半波高的位置。

4.3.1.3 用同樣方法來(lái)找并標(biāo)出槽的**次反射波高度和半波高度的位置。然后畫出槽的兩次反射波高位置和半波高位置的連線，這兩條線分別稱為波高基準(zhǔn)線和半波高度基準(zhǔn)線。

4.3.2 軸線方向

4.3.2.1 如4.3.1.1條中所述，使換能器垂直于外圓表面，并使得到的水聲程為75±6.5mm。再將換能器放在周向基準(zhǔn)線的上方，調(diào)整角度和水平位置，使超聲波束朝向較近的護(hù)環(huán)端面時(shí)校準(zhǔn)槽的反射信號(hào)*大。

4.3.2.2 調(diào)整增益，使**次反射波的波高為40mm，并標(biāo)出波高和半波高的位置。

4.3.2.3 用相同的方式尋找并標(biāo)出校準(zhǔn)槽的**反射波的波高和半波高的位置。然后畫出連接校準(zhǔn)槽的兩次反射波的波高連線和半波高連線，這兩條線分別稱為波高基準(zhǔn)線和半波高基準(zhǔn)線。

4.4 掃查

4.4.1 接觸法

4.4.1.1 周向掃查

    將探頭用手或機(jī)械夾具壓在護(hù)環(huán)外圓表面上，并使聲束指向圓周方向。沿圓周方向移動(dòng)探頭，同時(shí)使探頭保持在校準(zhǔn)時(shí)所確定的適當(dāng)接觸角。逐次進(jìn)行平行掃查，每次掃查與上一次掃查的重疊區(qū)應(yīng)大致為換能器（不是探頭）直徑的15%，直到整個(gè)護(hù)環(huán)外圓掃查完畢為止。將探頭的行進(jìn)方向調(diào)轉(zhuǎn)180°，重復(fù)上述過(guò)程。如果在檢查時(shí)探頭保持固定不動(dòng)而護(hù)環(huán)旋轉(zhuǎn)，則其表面移動(dòng)的速度不應(yīng)大于150mm/s。

4.4.1.2 軸向掃查

    圓周方向檢驗(yàn)時(shí)所確定的靈敏度也適用于軸向檢驗(yàn)。使探頭的位置靠近護(hù)環(huán)的一端，并使聲束沿軸向指向這一端。將探頭沿圓周方向逐次進(jìn)行平行的掃查，每次掃查與上一次掃查的重疊應(yīng)大致為換能器直徑的15%，直到整個(gè)護(hù)環(huán)外圓掃查完畢。對(duì)探頭的行進(jìn)方向調(diào)轉(zhuǎn)180°重復(fù)上述過(guò)程。如果在檢查時(shí)探頭保持固定不動(dòng)而護(hù)環(huán)旋轉(zhuǎn)，則其表面移動(dòng)的速度，不應(yīng)大于150mm/s。

4.4.1.3 防止漏檢

    在接觸法掃查中，為了防止由于探頭接觸不穩(wěn)而漏檢，可將掃查靈敏度在定量靈敏度（一次基準(zhǔn)線）基礎(chǔ)上適當(dāng)提高，發(fā)現(xiàn)缺陷信號(hào)需要用基準(zhǔn)線測(cè)量時(shí)，仍降至原靈敏度。

4.4.2 液浸法

4.4.2.1 周向掃查

   將換能器按4.3.1條所述的方法裝好，使它保持在校正時(shí)所確定的適當(dāng)角度。轉(zhuǎn)動(dòng)工件或使探頭沿圓周方向移動(dòng)（或使探頭作軸向移動(dòng)）。逐次進(jìn)行平行掃查，每次掃查與上一次的重疊區(qū)應(yīng)大致為換能器直徑的15%，直到整個(gè)護(hù)環(huán)外圓表面掃查完畢。重新調(diào)整探頭，沿軸向作相反方向掃查，重復(fù)上述過(guò)程。檢驗(yàn)時(shí)表面移動(dòng)速度不應(yīng)大于150mm/s。

4.4.2.2 軸向掃查

    按4.3.2條校正設(shè)備。轉(zhuǎn)動(dòng)護(hù)環(huán)或使探頭沿圓周方向移動(dòng)（或使探頭作軸向移動(dòng)），這時(shí)應(yīng)使換能器保持在校正時(shí)所定的適當(dāng)角度。逐次進(jìn)行掃查，每次掃查與上一次掃查的重疊區(qū)應(yīng)大致為換能器直徑的15%，直到整個(gè)護(hù)環(huán)外圓表面掃查完畢。重新調(diào)整探頭，沿軸向作相反方向掃查，重復(fù)上述過(guò)程。檢驗(yàn)時(shí)表面移動(dòng)速度不應(yīng)大于150mm/s。

4.5 檢驗(yàn)報(bào)告

4.5.1 在靠近內(nèi)外壁表面大約6.5mm的范圍內(nèi)，由于缺陷所顯示的信號(hào)受表面上反射超聲波束的影響，其幅度大于表面以下相同缺陷的信號(hào)幅度。所以評(píng)價(jià)表面附近的缺陷時(shí)，應(yīng)參照波高基準(zhǔn)線，評(píng)價(jià)內(nèi)部缺陷時(shí)，應(yīng)參照半波高基準(zhǔn)線。

4.5.2 在檢驗(yàn)過(guò)程中，應(yīng)在護(hù)環(huán)上標(biāo)出超過(guò)相應(yīng)基準(zhǔn)線的所有顯示信號(hào)的位置。在護(hù)環(huán)固定不動(dòng)的情況下復(fù)查在護(hù)環(huán)轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)發(fā)現(xiàn)的所有信號(hào)顯示，并記錄復(fù)查結(jié)果。

4.5.3 將Ｖ形槽所在位置規(guī)定為類似時(shí)鐘12點(diǎn)整所在位置，記錄所有達(dá)到或超過(guò)各自基準(zhǔn)線的信號(hào)顯示的數(shù)量、幅度和位置（軸向的、徑向的以及時(shí)鐘方向的位置）。對(duì)于超過(guò)相應(yīng)基準(zhǔn)線的信號(hào)幅度，按超過(guò)量的分貝值或?qū)Τ^(guò)的百分?jǐn)?shù)按10%的增量記入檢驗(yàn)報(bào)告。

4.5.4 當(dāng)出現(xiàn)許多可記錄的信號(hào)時(shí)，應(yīng)單獨(dú)記錄較大信號(hào)的數(shù)量和幅度（參考4.5.3條），并估算其余信號(hào)的數(shù)量和幅度。

5縱波檢驗(yàn)方法

5.1 對(duì)比試塊（徑向檢驗(yàn)）

5.1.1 為了對(duì)超聲檢驗(yàn)中產(chǎn)生的多種可變因素進(jìn)行校正，必須利用對(duì)比試塊來(lái)調(diào)整測(cè)試設(shè)備，校正測(cè)試靈敏度和評(píng)價(jià)缺陷。對(duì)比試塊的制作應(yīng)符合JB/ZQ 6142《超聲波檢驗(yàn)用鋁合金對(duì)比試塊的制造和控制》中所述的要求。

5.1.2 超聲探傷中用的對(duì)比試塊，其聲學(xué)特性如衰減、噪聲電平、聲速等應(yīng)與被檢件相似，否則需作相應(yīng)的修正。

5.1.3 校正用的對(duì)比試塊應(yīng)按5.1.1和5.1.2條的要求制作，具有直徑為3mm的平底孔。試塊的金屬聲程的允許偏差如表1所示。

                        表   1                             ｍｍ

5.2 校正

5.2.1 接觸法（徑向檢驗(yàn)）

5.2.1.1 將直探頭連接在探測(cè)儀器上（合金鋼護(hù)環(huán)用5ＭＨZ的探頭、非磁性護(hù)環(huán)用2--2.5ＭＨZ或1--1.25ＭＨZ的探頭）。選擇一個(gè)在聲學(xué)特性上同被檢護(hù)環(huán)等效的對(duì)比試塊，其金屬聲程為Ｔ－20mm或Ｔ－25mm（Ｔ為被檢護(hù)環(huán)的壁厚）。

5.2.1.2 將探頭置于校正用對(duì)比試塊進(jìn)入面上，調(diào)整增益，使直徑3mm的平底孔的回波高度為40mm。

5.2.1.3 將探頭置于被檢護(hù)環(huán)的外圓表面，調(diào)整掃描線，使 熒光屏上至少有兩次底面回波顯示。

5.2.2 液浸法（徑向檢驗(yàn)）

5.2.2.1 將換能器（合金鋼護(hù)環(huán)用5ＭＨz的，非磁性護(hù)環(huán)用2--2.5ＭＨz或1--1.25ＭＨz的）安裝在同探傷設(shè)備相連的探頭支架上，選擇一個(gè)其金屬聲程為20mm的對(duì)比試塊。

5.2.2.2 調(diào)整換能器的位置，以得到75±6.5m的水聲程，且使聲束垂直于校正用對(duì)比試塊的表面。

5.2.2.3 使換能器的位置在對(duì)比試塊進(jìn)入面的上方，調(diào)整掃描延遲和掃描長(zhǎng)度。使水-鋼界面反射波的位置出現(xiàn)在熒光屏的左端。調(diào)整增益，使有20mm金屬聲程的基準(zhǔn)孔的回波高度為40mm。。

5.2.2.4 不改變檢驗(yàn)靈敏度，調(diào)整換能器，使其垂直于護(hù)環(huán)的外圓表面。換能器和護(hù)環(huán)表面之間應(yīng)保持75±6.5mm的水程（根據(jù)生產(chǎn)單位的設(shè)備性能，可從護(hù)環(huán)的內(nèi)圓表面或外圓表面進(jìn)行掃查）調(diào)整掃描控制，使熒光屏上至少有兩次護(hù)環(huán)底面回波顯示。

5.2.3 軸向校正

    規(guī)定要進(jìn)行軸向縱波檢驗(yàn)時(shí)，采用接觸法。調(diào)整掃描線長(zhǎng)度，使底面回波的位置出現(xiàn)在熒光屏的右側(cè)。調(diào)整儀器的控制旋鈕，使護(hù)環(huán)另一端面的底面回波高度為40mm。

5.3 接觸法掃查

5.3.1 徑向檢驗(yàn)

    將掃查探頭用手或機(jī)械夾具置于護(hù)環(huán)外圓表面上，保持在校正時(shí)所確定的適當(dāng)接觸角，沿周向移動(dòng)逐次進(jìn)行平行掃查。每次掃查同上一次掃查的重疊區(qū)應(yīng)大致為換能器（不是探頭）寬度的15%，直到整個(gè)護(hù)環(huán)外圓表面掃查完畢。如果檢驗(yàn)時(shí)探頭保持不動(dòng)而護(hù)環(huán)旋轉(zhuǎn)，則其表面移動(dòng)速度不應(yīng)超過(guò)150mm/s。

5.3.1.1 在接觸法掃查中，為了防止由于探頭接觸不穩(wěn)而漏檢,可將掃查靈敏度在定量靈敏度基礎(chǔ)上適當(dāng)提高。當(dāng)發(fā)現(xiàn)缺陷信號(hào)時(shí)仍降至原靈敏度。

5.3.1.2 記錄兩次反射聲程中出現(xiàn)的幅度大于10mm的任何反射信號(hào)。

5.3.1.3 在護(hù)環(huán)上標(biāo)出幅度大于10mm的任何反射信號(hào)，并作記錄。所有隨反射信號(hào)同時(shí)出現(xiàn)的底波的顯著變化或消失情況，都要記入檢驗(yàn)報(bào)告。

5.3.2 軸向檢驗(yàn)

    將探頭置于護(hù)環(huán)熱配合一端的表面，沿圓周方向移動(dòng)。逐次進(jìn)行平行掃查，每次掃查同上次掃查的重疊區(qū)應(yīng)大致為換能器寬度的15%，直到整個(gè)護(hù)環(huán)端面掃查完畢。如果探頭固定不動(dòng)而護(hù)環(huán)旋轉(zhuǎn)，則其表面移動(dòng)速度不應(yīng)超過(guò)150mm/s。在檢驗(yàn)過(guò)程中，應(yīng)在護(hù)環(huán)上標(biāo)出超過(guò)**次底面回波10%的反射信號(hào)位置。對(duì)于底面回波衰減50%的部位，也應(yīng)看作缺陷并做好記錄。

5.4 液浸法檢驗(yàn)

5.4.1 徑向檢驗(yàn)

    通過(guò)旋轉(zhuǎn)護(hù)環(huán)或換能器，用互相有覆蓋區(qū)的掃查方法檢驗(yàn)整個(gè)護(hù)環(huán)。每次掃查同上一次掃查的重疊區(qū)應(yīng)大致為換能器直徑的15%。

5.4.1.1 注意兩次反射聲程中出現(xiàn)的幅度大于10mm的任何反射信號(hào)。

5.4.1.2 在鍛件上標(biāo)出所有信號(hào)的位置，并作記錄。在靈敏度不變情況下，所有隨信號(hào)同時(shí)出現(xiàn)的底波消失情況，以及所有底面回波的位移或幅度變動(dòng)情況，都要記入檢驗(yàn)報(bào)告。

5.5 檢驗(yàn)報(bào)告

5.5.1 徑向檢驗(yàn)

5.5.1.1 在護(hù)環(huán)固定不動(dòng)的情況下復(fù)查在護(hù)環(huán)轉(zhuǎn)動(dòng)狀態(tài)下發(fā)現(xiàn)的所有信號(hào)，并記錄復(fù)查的結(jié)果。

5.5.1.2 將Ｖ形槽規(guī)定為類似時(shí)鐘12點(diǎn)整的位置，記錄所有達(dá)到和超過(guò)各自基準(zhǔn)高度1/4的信號(hào)的幅度、數(shù)量和位置（軸向的、徑向的以及時(shí)鐘方向的位置），并在估算缺陷的深度上以10%的增量記錄。也可以使用一套不同深度的直徑為3mm的平底孔試塊，來(lái)評(píng)價(jià)缺陷在其所在深度處的尺寸。

5.5.1.3 在徑向檢驗(yàn)時(shí)，那些顯示出多次底波有明顯衰減或位移的區(qū)域，必須當(dāng)作信號(hào)記錄并加以說(shuō)明。應(yīng)對(duì)這些區(qū)域作一步的探查，其方法是擴(kuò)展掃描線并用較高的頻率對(duì)缺陷進(jìn)行探測(cè)，或者采用其他型式的探頭對(duì)缺陷進(jìn)行探測(cè)。

5.5.2 軸向檢驗(yàn)（僅用于接觸法）

5.5.2.1 在護(hù)環(huán)靜止不動(dòng)的狀態(tài)下復(fù)查在護(hù)環(huán)轉(zhuǎn)動(dòng)狀態(tài)下發(fā)現(xiàn)的所有信號(hào)，并記錄復(fù)查的結(jié)果。

5.5.2.2 將Ｖ形槽規(guī)定為類似時(shí)鐘12點(diǎn)整的位置，以底面回波的10%為增量，記錄所有信號(hào)的數(shù)量、幅度和位置（徑向的、軸向的以及時(shí)鐘方向的位置）。

6報(bào)告

6.1 超聲檢驗(yàn)的結(jié)果，必須同相應(yīng)的護(hù)環(huán)識(shí)別標(biāo)志一起在書(shū)面報(bào)告上記錄并加以說(shuō)明。

6.2 報(bào)告必須包括下述內(nèi)容：Ｖ形槽的尺寸（包括寬度和深度），可記錄的信號(hào)的數(shù)量幅度和相對(duì)位置（參照4.5和5.5條）。在從幾個(gè)方向都能記錄到缺陷的情況下，要把這種情況加以識(shí)別。

6.3 對(duì)在異常聲程或異常檢測(cè)表面范圍內(nèi)探測(cè)到的缺陷應(yīng)作出說(shuō)明。

7處理

7.1 沒(méi)有可記錄缺陷信號(hào)的護(hù)環(huán)應(yīng)予驗(yàn)收。

7.2 由于粗晶或顯微組織而使Ｖ形槽反射信號(hào)不能從噪聲電平中區(qū)別出來(lái)的護(hù)環(huán)，應(yīng)予拒收。

7.3 凡有可記錄信號(hào)的護(hù)環(huán)應(yīng)按技術(shù)條件和定貨協(xié)議判定質(zhì)量是否合格。

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    附加說(shuō)明:

    本標(biāo)準(zhǔn)由德陽(yáng)大型鑄鍛件研究所提出并歸口。

    本標(biāo)準(zhǔn)由北京重型機(jī)器廠負(fù)責(zé)起草。

    本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人鄭中興。

機(jī)械工業(yè)部重型礦山機(jī)械工業(yè)局 1984-05-16發(fā)布   1984-10-01實(shí)施