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JB/T 6064--92滲透探傷用鍍鉻試塊技術(shù)條件

  國(guó) 機(jī) 業(yè) 標(biāo) 準(zhǔn)

                                                       JB/T6064--92

                     滲透探傷用鍍鉻試塊  技術(shù)條件

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1 主題內(nèi)容與適用范圍

    本標(biāo)準(zhǔn)對(duì)滲透檢驗(yàn)所使用的B、C兩種鍍鉻試塊規(guī)定了*基本的要求。

    本標(biāo)準(zhǔn)適用于滲透檢驗(yàn)B、C兩種鍍鉻試塊的生產(chǎn)和出廠質(zhì)量的要求。

 

2 技術(shù)要求

2.1 B型試塊

2.1.1 B型鍍鉻試塊的形狀及尺寸

    B型鍍鉻試塊的形狀及尺寸見(jiàn)圖1。

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--45┼─ 57 ─┤       

   

                      

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             2--3

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    1 B型鍍鉻試塊

2.1.2 試塊的材料及制作

   a. B型鍍鉻試塊的基體材料應(yīng)是不銹鋼板(如1r18i9i,Cr17i2等)。

   b. 試塊正面(工作面)沿長(zhǎng)邊分成兩部分:一側(cè)有面積為152mm45mm的鍍鉻帶,此鍍鉻面上采用布氏硬度計(jì)在其背面施加不同負(fù)荷而形成的5個(gè)輻射狀裂紋區(qū),其位置按25mm的間隔并按大小順序排列(見(jiàn)圖1);與鍍鉻帶相鄰的另一側(cè)是0.2mm的細(xì)砂噴砂面,噴砂時(shí)的氣壓為0.4MPa,噴砂后的底色應(yīng)均勻。

   C. 在試塊一端中部鉆有懸掛用的Φ6mm通孔。

   d. 試塊上的鍍鉻層應(yīng)細(xì)密均勻,鍍層厚度應(yīng)為20--60μm。

2.1.3 質(zhì)量要求

   a. 當(dāng)用不同靈敏度的滲透劑系統(tǒng)進(jìn)行檢驗(yàn)時(shí),試塊上可顯示的裂紋區(qū)數(shù)應(yīng)如表1所示。

                       1

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   滲透劑系統(tǒng)的靈敏度       可顯示的裂紋區(qū)數(shù)   

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      低靈敏度                  2--3         

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      中靈敏度                  3--4         

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      高靈敏度                  4--5         

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      超高靈敏度                  5         

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   b. 當(dāng)用高靈敏度或超高靈敏度的滲透劑系統(tǒng)進(jìn)行檢驗(yàn)時(shí),試塊上各裂紋區(qū)由大到小的直徑顯示應(yīng)如表2所示。

                            2

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     1       2      3       4       5   

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  4.5--5.5 3.5--4.5  2.4--3.0 1.6--2.0 0.8--1.0

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   C. 試塊鍍鉻帶的表面粗糙度值Ra應(yīng)為0.63--1.25μm;噴砂后表面粗糙度值Ra應(yīng)為1.25--2.5μm

2.2 C型試塊

2.2.1 C型鍍鉻試塊的形狀及尺寸

    C型鍍鉻試塊的形狀及尺寸見(jiàn)圖2。

                 

┟─── 70  --

             

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┠───────┨ 100

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             ┃│0.4(1.0)

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    2 C型鍍鉻試塊

2.2.2 試塊的材料及制作

   a. C型鍍鉻試塊是在0.41mm厚的黃銅板上鍍10--50μm厚的鎳鍍層,然后再鍍上一層很薄的鉻鍍層(1μm左右)。

   b. 將試塊拉伸或在壓彎?rùn)C(jī)上彎曲(鍍面朝外),使鍍層產(chǎn)生裂紋,然后將曲面整平而制成。

   C. 由于裂紋的深度與鍍層的厚度一致,可通過(guò)調(diào)整鍍層的厚度來(lái)控制裂紋的深度。

2.2.3 質(zhì)量要求

    C型鍍鉻試塊每套有3塊,其裂紋等級(jí)、裂紋深度和寬度如表3所示。

                      3                  μm

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裂紋等級(jí) │粗裂紋C1│中裂紋C2│細(xì)裂紋C3

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  深度D    40--50     20--30     <13   

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  寬度W              0.1--5                

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3 標(biāo)志、包裝和貯存

3.1 標(biāo)志

    試塊背面應(yīng)磨光并用蝕刻法印上標(biāo)志,內(nèi)容應(yīng)包括試塊名稱(chēng)、型號(hào)、編號(hào)、生產(chǎn)單位和日期等。

3.2 包裝

3.2.1 成品試塊應(yīng)裝在具有一定剛性的盒內(nèi),盒內(nèi)應(yīng)有軟性襯墊和固定試塊的結(jié)構(gòu)。

3.2.2 盒內(nèi)應(yīng)附有試塊的檢定合格證書(shū)、使用和維護(hù)說(shuō)明以及顯示裂紋照片等。

 

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    附加說(shuō)明:

    本標(biāo)準(zhǔn)由國(guó)內(nèi)無(wú)損檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出。

    本標(biāo)準(zhǔn)由機(jī)械電子工業(yè)部上海材料研究所歸口。

    本標(biāo)準(zhǔn)由航空航天工業(yè)部第六二一研究所負(fù)責(zé)起草。

    本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人孫殿壽、王海峰。

 

機(jī)械電子工業(yè)部1992-05-05批準(zhǔn)      1993-07-01實(shí)施

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